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原子吸收中常用的術(shù)語
點擊次數(shù):2499 更新時間:2009-06-15

http:///1、Accuracy(準確度)
衡量測量值與‘真值’接近程度的量度。注意,任何基于未知樣品與標樣相比較來進行 分析測量的方法,其準確度不可能高于標樣本身的準確度。因此原子吸收測量的準確度 依賴于所制備標樣及樣品的準確程度。干擾也會對準確度造成影響。
2、Aerosol (霧汽)
由霧化器所產(chǎn)生的很細的霧滴。
3、Analyte (被分析元素)
所要檢測的元素。
4、Atomic Absorption (原子吸收)
是一種基于原子對光產(chǎn)生吸收進行元素分析的技術(shù)。當原子吸收過程發(fā)生時,原子的電 子發(fā)生躍遷,到較高能級,成為激發(fā)態(tài)。
5、Atomic Emission(原子發(fā)射)
是一種基于激發(fā)態(tài)原子向基態(tài)原子回遷釋放能量(產(chǎn)生發(fā)射光)進行元素分析的技術(shù)。
6、Atomization(原子化)
是將被分析元素或其化合物轉(zhuǎn)換成原子蒸汽的過程。
7、Blaze(閃爍)
為光柵刻線的形狀,決定波長與相應(yīng)能量的分配。
8、Blaze Angle(閃耀角)
光柵的閃耀角決定散射光Z大光強波長。
9、Blaze Wavelength(閃耀波長)
光柵散射Z大強度波長。
10、Calibration(校正)
建立分析校正曲線圖,該圖描述了被分析元素濃度與吸光度之間的關(guān)系。在原子發(fā)射中 ,則為發(fā)射強度與濃度之間的關(guān)系。
11、Calibration Blank(校正空白)
為空白溶液,該溶液中不人為加入某一已知濃度的被分析元素。通常該空白溶液應(yīng)與其 它標樣保持相同基體,因而其測量值代表所使用試劑的污染程度。用于校正。
12、Characteristic Concentration(特征濃度)
為被分析元素產(chǎn)生 0.0044 (1 % )吸光度所需濃度。不同的儀器,特征濃度不一 樣。 可按下列公式計算:
Char. Conc. = (標樣濃度 * 0.0044) / 平均吸光度
(通常在校正曲線線性范圍內(nèi)測,如<0.2ABS)
13、Characteristic Mass(特征質(zhì)量)
在石墨爐分析中,按峰高計算,被分析元素產(chǎn)生0.0044吸光度所需質(zhì)量(以皮克為單位 )??砂聪鹿接嬎悖?
Char. Mass = (標樣濃度 * 0.0044 * 進樣體積) / 標樣吸光度
14、Chemical Modifier(基體改進劑)
基體改進劑是加在樣品中的一種試劑,作用是用化學(xué)的方法改變樣品的基體組成,以改 變被分析元素的揮發(fā)性和/或基體結(jié)構(gòu),降低干擾,或?qū)⒈环治鲈匾蕴囟ㄐ螒B(tài)隔離出來,從而分離出背景信號和被分析元素的原子吸收信號。對復(fù)雜基體,基體改進劑可在原 子化階段增強原子吸收信號和/或降低背景信號。理想的基體改進劑,兼?zhèn)鋬烧叩墓δ堋?
15、Coefficient of Variation(變異系數(shù))
多次測量的重復(fù)性或精密度。通常用相對標準偏差% RSD 來表示。即為標準偏差除以平 均值(百分數(shù))。
16、Desolvation(脫溶)
霧汽干燥,溶劑蒸發(fā),形成干的微小固體顆粒的過程。
17、Detection Limit(檢出限)
在某一波長下測量某一被分析元素的空白溶液的濃度,所得多次測量值標準偏差的司倍 即為該被分析元素在該波長下的檢出限。這是儀器所能檢出的高于背景噪聲的Z低限。
在檢出限附近,因測量精度一般較差,%RSD在33%以上。因此要進行較準確的測量是 不可能的。所以,正常測量因至少在高于檢出限5-10倍的濃度范圍進行,此范圍內(nèi)測量精度可達3-5%。
18、Digestion(消解)
將固態(tài)樣品用酸轉(zhuǎn)化成液體形態(tài)的過程。
19、Dynode(打拿極)
光電倍增管信號放大的中間級。
20、Emission(發(fā)射)
原子能級躍遷所釋放出的能量。
21、Emission Intensity(發(fā)射強度)
發(fā)射時產(chǎn)生譜線(光)強弱的度量。
22、Excitation(激發(fā))
原子由于碰撞、被加熱或光線照射而吸收能量的過程。當發(fā)生激發(fā)時,原子的外層電子躍遷到較高能級。該原子成為激發(fā)態(tài)原子。
23、Filter(濾光片)
是一種衰減如射輻射能量的材料。是選擇某一波長范圍的方法。
24、Grating Density(光柵密度)
光柵上每單位長度中的刻線條數(shù)。通常用線/毫米來描述。
25、Grating Diffraction(衍射光柵)
為一光學(xué)器件,帶有一鏡面,上可有距離相等的一系列刻線,具衍射分光作用。 通常稱光柵。
26、Ground State(基態(tài))
原子能量Z低,Z穩(wěn)定狀態(tài)。基態(tài)原子中的電子都處于其Z底能級。
27、Holographic Grating(全息光柵)
采用全息照相技術(shù)生產(chǎn)出來的光柵。具較小雜散特性。
28、Hydride Generation(氫化物發(fā)生器)
是一種使被分析元素與還原劑(通常為硼氫化鈉)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),產(chǎn)生揮發(fā)性氫化物,然后通到石英池加熱還原成自由基態(tài)原子的技術(shù)。
29、Interference(干擾)
任何影響吸收值正常測量的化學(xué)及物理效應(yīng)。
30、Ionization(離子化)
為中性原子失去電子或得到電子而成為帶電荷離子的過程。
31、Linear Dispersion(線性色散)
光柵對不同波長分光的程度,用微分式來描述: dx/dg, 其中:
x = 光譜長
g = 波長
單位為: mm/nm.
32、Linear Dynamic Range(線性動態(tài)范圍)
校正曲線線性范圍內(nèi),濃度的范圍。原子吸收中,一般可達102 - 103.
33、Magnetic Sensitivity Ratio (MSR)(磁場靈敏度比)
塞曼吸收與正常吸收的百分比。 用來確定塞曼石墨爐法分析中被分析元素靈敏度的損失程度。MSR 為100 %表明該元素無靈敏度損失。 計算公式如下:
MSR = 磁場ON時吸光度 * 100/ 磁場Off時吸光度
34、Matrix(基體)
樣品中的主要化學(xué)成分。
35、Matrix Matching(基體匹配)
在分析中為克服樣品基體對結(jié)果的影響,將標樣制備成與樣品基體一樣的標樣。
36、Matrix Interference(基體干擾)
非譜線性質(zhì)干擾,是由于樣品與標樣的基體不同而引起的差異。如樣品與標樣的表面張力或黏度不同而產(chǎn)生的干擾。
37、Maximum Absorbance(Z大吸光度)
在塞曼吸收中,對某一特定波長,所允許的Z大峰高值。 超過該值時,就可能發(fā)生曲線下彎現(xiàn)象。
38、Monochromator(單色器)
為光學(xué)器件,用來從光譜中分離出有用的窄波長。
39、Nebulizer(霧化器)
將溶液轉(zhuǎn)化成霧狀霧汽的裝置。
40、Precision(精密度)
對同一樣品進行多次測量的重復(fù)性,通常用相對標準偏差%RSD來表示,或用變異系數(shù)CV來表示。
41、Reagent Blank(試劑空白)
不加被分析元素的溶液,通常與樣品具有相同基體,以消除試劑污染的影響。
42、Resolution(分辨率)
表示光譜儀分離相鄰波長的能力。
% RSD
相對標準偏差。
% RSD = (標準偏差* 100) / 平均吸光度
43、Spectrometer(光譜儀)
按波長分離,測量光的光學(xué)儀器。
44、Spectral Interference(光譜干擾)
由于分辨率不夠,相鄰波長未*分離,造成譜線重疊,從而可能對測量結(jié)果產(chǎn)生影響。
45、Spray Chamber(霧化室)
安裝在霧化器與燃燒頭之間的器件,用來濾除較大霧滴,并使樣品與氣體混合。
46、Standard Additions(標準加入)
該方法可克服由于樣品與標樣基體不同而造成的誤差。因標樣被加入到樣品中,兩者的基體基本一致。如采用化學(xué)基體改進劑方法無法消除干擾時可考慮采用該方法。
47、Standard Deviation(標準偏差)

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